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高耐蝕性防護裝飾鍍輅

20世紀50年代中期以來，鍍錫價格，在防護裝飾性鎳/鉻或銅/鎳/鉻渡層體系中，多層鎳的應用顯著提高了鍍件的耐蝕性能，進一步的研究表明，鍍錫廠家，鎳/鉻鍍層的耐蝕性能不僅與鎳層的生質和厚度有關，同時在很大程度上還取決于鍍層的結構特征。鉻的電沉積與其他電鍍工藝相比不僅槽液特殊，而且形成金屬鉻的性質也不同。如果在標準鍍鉻溶液(鉻酸酐250g/L.硫酸2.5g/L)中進行鍍鉻，雖然鍍層厚度僅為0.25~0.5μm，但由于內應力高，鉻層表面分會產(chǎn)生稀疏的粗裂紋。這不僅造成鍍件外觀缺陷，更嚴重的是加重了底層的腐蝕，由于這一原因，發(fā)展了無裂紋鍍鉻工藝。雖然無裂紋鉻在加速腐蝕實驗和暴露實驗中具有良好的耐地性，但在使用過程中，鉻層仍要產(chǎn)生粗裂紋。 在特定條件下，鉻層表面的裂紋和孔隙不僅無害，反而能提高整個鍍層體系的耐蝕性。20世紀60年代中期，國外對鍍鉻層微觀結構進行了研究，開發(fā)了更耐蝕性的微裂紋鉻和微孔鉻新工藝。

電鍍加工需要提供溫度來進行拋光的金屬有鋼鐵、鎳、鉛等，若溫度低于某一定值，就會失去光滑的腐蝕表面，故存在一個形成光澤面的臨界點，在臨界點以上的溫度范圍內拋光效果較好。而這個溫度范圍又因液體的組成不同而異，如果高于這個溫度范圍，會形成點蝕、局部污點或斑點，使整個拋光效果降低。此外，溫度越高，材料的溶解損失也越大。

(2)銅及其合金的化學拋光。銅和單相銅合金可在磷酸一一醋酸或硫酸一一鉻酸型溶液中進行化學拋光

在使用過程中需經(jīng)常補充，拋光時如果二氧化氮析出較少，零件表面呈暗黃色時，可按配置量的1/3補充。為防止過量的水帶入槽內，零件應干燥后再拋光。

(3)鋁及鋁合金的化學拋光。為獲得光亮的表面，必須嚴格控制拋光液的含量。含量過低，拋光速度慢且拋光后表面光澤性差；含量過高，容易發(fā)生鱗狀腐蝕。磷酸濃度低時，不能獲得光亮的表面，為了防止溶液被稀釋，拋光前的零件表面應干燥。醋酸和硫酸可以抑制點狀腐蝕，使拋光表面均勻、細致。硫酸銨和尿素可以減少氧化氮的析出，并有助于改善拋光質量。少量的銅離子可以防止過腐蝕，從而提高拋光表面的均勻性，但含量過高又會降低拋光表面的反光能力。鉻酐可以提高鋁鋅銅合金的拋光質量，含鋅、銅絲高的強度鋁合金在不含鉻酐的拋光液中，難以獲得光亮的表面。

經(jīng)化學拋光的零件，一般應在室溫下于400—500g/L的中或在100~200g/L的鉻酐溶液中，浸漬數(shù)秒至數(shù)十秒，鍍錫，以除去表面的接觸銅。

在特定條件下，鉻層表面的裂紋和孔隙不僅無害，反而能提高整個鍍層體系的耐蝕性。20世紀60年代中期，國外對鍍鉻層微觀結構進行了研究，開發(fā)了更耐蝕性的微裂紋鉻和微孔鉻新工藝。

(1)微孔鉻 形成微孔鉻的是通過光亮鎳取得的，即所謂鎳封法(Nickel Seal)。在光亮鎳中加人一些不溶性的非導體顆粒，如硫酸鋇、二氧化硅等，在促進劑的作用下，用壓統(tǒng)空氣強烈攪拌鍍液，使固體顆粒均勻地與鎳共沉積。鍍鉻時，在非導體顆粒上就鍍不上鉻而形成微孔鉻層。這種工藝的關鍵是如何選擇性能良好的促進劑，促進固體顆粒能均勻地分布在鎳層中。不溶性非導體顆粒的直徑應小于1μm。鎳封層厚度為0.5~1.0μm。

(2)微裂紋鉻 20世紀60年代中期，開發(fā)了電鍍高應力鎳產(chǎn)生微裂紋鉻新工藝。其方法是在光亮鎳上再電鍍一薄層(約 1微米)高應力鎳，具有很高內應力的鎳層，極易形成微裂紋，隨后鍍鉻，鉻層就形成微裂紋鉻。鉻層厚度為0. 25μm國外稱為PNS (Pots NickelStrike}工藝。